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电子束曝光(EBL)
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发布日期:2022-04-06
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详细介绍

设备能力:

最小线宽60nm,步进精度可以0.5nm,也可以2nm,步进精度越小,时间越久

样品要求:

各种碎片、50 mm100 mm基片,样品导电性良好,需要给出GDS格式的版图

案例: