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干法刻蚀
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发布日期:2022-04-06
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详细介绍

设备能力:

气源有BCl3Cl2HBrArO2H2CH4N2SF6CHF3HeC4F8

样品要求:

1. 材料:硅、III-V族、SiO2SiN、金属

2. 尺寸:4英寸以内

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